分散型锥体磨,胶体磨分散机二合一设备

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分散型锥体磨,胶体磨分散机二合一设备

规格：CMSD

所属类型：化工设备

价格：122700元(含税)
发布时间：2019/1/22 13:49:07
数量：10个
所在地：上海

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产品信息

产品介绍

分散型锥体磨,胶体磨分散机二合一设备

立式锥体磨,分散型锥体磨,胶体磨分散机二合一设备,高速剪切分散机,研磨型高速分散机

立式 锥体磨(胶体磨)工作原理:锥体磨(胶体磨)是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过锥体磨(胶体磨)定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。此款立式锥体磨(胶体磨)比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果好,zui高转速可以达到14000RPM。

CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯林万翠

锥体磨(胶体磨)的研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和后的粒径大小都比CM2000系列胶体磨的效果更加理想。

CMSD 2000系列胶体磨(锥体磨)分散机二合一设备设备选型表

型号	流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
CMSD 2000/4	300	14000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2850	41	90	DN150/DN125
CMSD 2000/50	60000	1100	41	160	DN200/DN150